文章目录

1 电化学分析

1.1 开路电位

1.2 动电位极化曲线

1.3 电化学阻抗谱

1.4 其他电化学研究

2 表面微观结构与相变

2.1 显微镜分析

2.2 光谱分析

2.3 其他表面分析

3 理论模型

3.1 热力学稳定性

3.2 氧化膜生长模型

    3.2.1 Cabrera-Mott生长模型

    3.2.2 Fehlner-Mott生长模型

    3.2.3 点缺陷生长模型

    3.2.4 现有模型基本问题

4 存在问题与展望

4.1 存在问题

4.2 展望

文章摘要:金属或合金表面三价铬基转化（TCC）膜毒性低,但稳定性较差且容易开裂。如何形成高品质的TCC膜,已成为提高材料耐蚀及稳定性的关键问题。本文通过调研国内外有关TCC膜研究现状,综述了TCC膜的生长过程、电化学特性、微观结构及物相等性能变化。结合氧化物热力学理论及膜层生长动力学模型,分析了TCC膜稳定性及发展机理,总结了目前TCC膜层生长研究中存在的问题,并对其未来发展趋势进行了展望。

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